大宗特氣供氣系統(tǒng)介紹

大宗特氣供氣系統(tǒng)主要針對(duì)大規(guī)模量產(chǎn)的8-12英寸（1英寸=25.4毫米） 超大規(guī)模集成電路廠（氣體種類包括SiH4、N2O、2、 C2F6、 NH3等），100MW以上的太陽能電池生產(chǎn)線（氣體種類包括NH3），發(fā)光二極管的磊晶工序線（氣體種類包括NH3）、5代以上液晶顯示器工廠（氣體種類包括4、3、NF3）、光纖（氣體種類包括SiCl4）、硅材料外延生產(chǎn)線（氣體種類包括HCL）等行業(yè)。它們的投資規(guī)模巨大，采用1先進(jìn)的工藝制程設(shè)備，用氣需求量大，對(duì)穩(wěn)定和不間斷供應(yīng)、純度控制和安全生產(chǎn)提出嚴(yán)格的要求。艾明坷科技有限公司主營(yíng)手套箱，如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。

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特氣系統(tǒng)知識(shí)分享：一般混合氣體

由兩種以上氣體混合配制而成的氣體,而且主要標(biāo)出大致濃度,即可滿足使用要求,這種氣體稱為一般混合氣體。

對(duì)氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%；含氫40%，其余是氮或氦的混合氣被用作氫火焰總烴檢測(cè)儀的燃料氣。

在測(cè)定放1射性物質(zhì)時(shí),使用的混合氣有下列幾種組成:含異丁烷0.95%,或含丁烷1.3%，或含丙烷1.5%，或含甲1烷5%～10%，均以氦為底氣。

深海呼吸用含氧20%～60%,其余是氮或氦的混合氣。激光用氣含CO24%～16%,N210%～25%，其余是氦。

光化學(xué)反應(yīng)、動(dòng)植物實(shí)驗(yàn)室和金屬腐蝕等研究用的混合氣因關(guān)系到公害問題,所以其中二氧化氮、二氧1化硫和硫1化氫等都要保持低濃度。

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氦質(zhì)譜檢漏儀

隨著科技的迅猛發(fā)展，氦質(zhì)譜檢漏儀及其應(yīng)用技術(shù)也在不斷發(fā)展和究善。各國(guó)的設(shè)備廠商相繼推出了多種類烈的氦質(zhì)譜檢漏儀，廣泛應(yīng)用丁航空航天，電力電子，汽車等各個(gè)行業(yè)，綜觀1新氦質(zhì)譜檢漏儀的性能特點(diǎn)發(fā)現(xiàn)，氦質(zhì)譜檢漏儀正向著高靈敏度、自動(dòng)化、寬程、等先進(jìn)方向發(fā)展，這些特點(diǎn)很好地滿足了當(dāng)前檢漏應(yīng)用的需求，也極大地1推動(dòng)了氮質(zhì)譜檢漏技術(shù)的不斷發(fā)展。艾明坷科技有限公司專業(yè)致力于手套箱、溶劑凈化等行業(yè)技術(shù)服務(wù)，艾明坷竭誠(chéng)為您服務(wù)。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導(dǎo)體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應(yīng)越來越高，對(duì)氣體中雜質(zhì)和露1點(diǎn)要求極為嚴(yán)格，需要達(dá)到ppb、ppt級(jí)，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對(duì)高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。對(duì)氣體分析儀用氣體,如含氫10%，其余是氦的混合氣以及含甲1烷5%或10%。